| 論文出版・発表日 | |
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| 論文名 | Electrochemical properties of N-doped hydrogenated amorphous carbon films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition methods |
| 著者 | Y. Tanaka;M. Furuta;K. Kuriyama;R. Kuwabara;Y. Katsuki;T. Kondo;A. Fujishima;K. Honda |
| 掲載雑誌名 | Electrochimica Acta |
| 学部・研究科名 | 理工学研究科 |
| 抄録 | |
| URL | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78650513397&partnerID=40&md5=40f3b5fa7072e86476688453c5c226b1 |
| 本サイトへの掲載日 | 2011-4-11 |